Вплив обробки водневою плазмою на виготовлені за допомогою електрохімічного і хімічного осадження наноструктуровані шари оксиду цинку

Скорочена інформація про документ
dc.contributor.authorЧорний, Владислав Миколайович
dc.date.accessioned2024-10-07T12:40:38Z
dc.date.available2024-10-07T12:40:38Z
dc.date.issued2024-06
dc.identifier.citationЧорний В. М. Вплив обробки водневою плазмою на виготовлені за допомогою електрохімічного і хімічного осадження наноструктуровані шари оксиду цинку [Електронний ресурс] : кваліфікаційна робота освітньо-кваліфікаційного рівня бакалавр / Чорний Владислав Миколайович ; наук. керівник Клочко Н. П. ; Національний технічний університет "Харківський політехнічний інститут". - ІКМ-420 - Харків, 2024. - 101с. + Презентаціяuk
dc.identifier.urihttp://repositorygt.kpi.kharkov.ua/handle/KhPI-Press/23391
dc.language.isoukuk
dc.publisherНаціональний технічний університет "Харківський політехнічній інститут"uk
dc.titleВплив обробки водневою плазмою на виготовлені за допомогою електрохімічного і хімічного осадження наноструктуровані шари оксиду цинкуuk
thesis.degree.codeІКМ-420uk
thesis.degree.departamentФізичне матеріалознавство для електроніки та геліоенергетикиuk
thesis.degree.levelбакалаврuk
thesis.degree.programМікро- та наносистемна технікаuk
thesis.degree.specializationМікро та наносистемна техніка для сонячної енергетикиuk
thesis.degree.specialty153 Мікро та наносистемна технікаuk
thesis.degree.trainingденнаuk

Файли

Контейнер файлів

Зараз показуємо 1 - 1 з 1
Ескіз
Назва:
Poiasniuvalna_zapyska_2024_Chornyi_V_M.pdf
Розмір:
2.77 MB
Формат:
Adobe Portable Document Format
Опис:
Завантажити

Колекції

Кафедра «Мікро- та наноелектроніка» (2024, весн.)