Вплив параметрів магнетронного розпилення на структуру тонкоплівкового телуриду кадмію

Скорочена інформація про документ
dc.contributor.authorЛогачов, Андрій Ігорович
dc.date.accessioned2023-07-28T11:27:44Z
dc.date.available2023-07-28T11:27:44Z
dc.date.issued2023
dc.identifier.citationЛогачов І. О. Вплив параметрів магнетронного розпилення на структуру тонкоплівкового телуриду кадмію [Електронний ресурс] : кваліфікаційна робота освітньо-кваліфікаційного рівня бакалавр / Логачов Іван Олександрович ; наук. керівник Доброжан А. І. ; Національний технічний університет "Харківський політехнічний інститут". - ІКМ-419 - Харків, 2023. - 70 с. + Презентаціяuk
dc.identifier.urihttp://repositorygt.kpi.kharkov.ua/handle/KhPI-Press/20405
dc.language.isoukuk
dc.publisherНаціональний технічний університет "Харківський політехнічній інститут"uk
dc.titleВплив параметрів магнетронного розпилення на структуру тонкоплівкового телуриду кадміюuk
thesis.degree.codeІКМ-419uk
thesis.degree.departamentФізичне матеріалознавство для електроніки та геліоенергетикиuk
thesis.degree.levelбакалаврuk
thesis.degree.programМікро- та наносистемна технікаuk
thesis.degree.specializationМікро та наносистемна техніка для сонячної енергетикиuk
thesis.degree.specialty153 Мікро та наносистемна технікаuk
thesis.degree.trainingденнаuk

Файли

Контейнер файлів

Зараз показуємо 1 - 1 з 1
Ескіз
Назва:
Poiasniuvalna_zapyska_2023_Lohachev_I_O.pdf
Розмір:
1.01 MB
Формат:
Adobe Portable Document Format
Опис:
Завантажити

Колекції

Кафедра «Мікро-та наноелектроніка» (2023, весн.)